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真空蒸鍍

● 原理簡單，操作方便，沉積參數易于控制
● 薄膜純度高，可用于薄膜性質研究
● 沉積速率快、效率高，可多塊同時蒸鍍
● 適用材料較多
● 是PVD工藝中成本最低的

薄膜與襯底的附著性相對較差，工藝重復性不太理想

真空蒸鍍用于高、低折射率材料的光學干涉鍍膜、鏡面鍍膜、裝飾鍍膜、軟包裝材料上的滲透阻隔膜、導電膜、防腐蝕涂層等。沉積金屬時，真空蒸鍍有時也稱為真空金屬化。

濺射沉積

● 薄膜與襯底附著性好
● 薄膜純度高
● 致密性好、無氣孔
● 適用于大多數固體材料（特別是熔點高的材料），材料適用范圍大
● 濺射鍍工藝可控性和重復性好，便于工業化生產

● 設備復雜，沉積參數控制較難
● 沉積速率較低
● 沉積方向性不如真空蒸鍍
● 濺射靶材通常較為昂貴
● 濺射沉積過程中，需仔細控制氣體成分，防止靶材中毒

濺射沉積廣泛用于在半導體材料上沉積薄膜金屬化、建筑玻璃上的涂層、聚合物上的反射涂層、存儲介質的磁性薄膜、玻璃和柔性網上的透明導電薄膜、干膜潤滑劑、耐磨涂層在工具和裝飾涂層上。

離子鍍

● 薄膜與襯底附著性好
● 致密性高
● 耐磨耐腐蝕性好
● 材料適用范圍大

● 有許多加工變量需要控制
● 通常很難在襯底表面獲得均勻的離子轟擊，導致薄膜特性發生變化
● 襯底可能加熱過度
● 轟擊氣體可能會融入生長的薄膜中

離子鍍用于在復雜表面上沉積復合材料的硬質涂層、附著金屬涂層、高密度光學涂層和保形涂層。使用離子鍍在航空航天部件上沉積鋁膜稱為離子氣相沉積。